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光刻设备-电子束曝光机


电子束曝光机JEOL JBX-6300FS

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JEOL JBX-6300FS是一款高斯束斑电子束光刻系统。该系统具有50MHz的扫描速度,最大写场1000μm x 1000μm,写场拼接精度±10nm,套刻精度±10nm,通过19位定位DAC和12位扫描DAC,可以得到0.125nm的扫描步距。设备具有自动校正功能,保证了曝光图形的高精度尺寸统一性,通过自动聚焦及自动标记检测功能,保证曝光结果高度重复性。该系统主要应用于集成电路直写、高分辨模板的制作、新型器件原型的开发和微纳米尺度的基础研究。


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公司名称:华慧芯科技(天津)有限公司


平台简介: 


    清华大学天津电子信息研究院高端光电子芯片创新中心,占地约800平方米,其中百级黄光区100平方米。中心拥有完整的光电子器件研发设备,支持III-V族半导体、硅基半导体、二维材料、柔性材料、金属材料等光电子芯片的研发,并具有多个纳米尺度的特色工艺模块和先进表征模块;配套的测试实验室提供国际领先的芯片测试分析技术。


    中心在支持天津电子院项目孵化的同时,面向社会开放,提供纳米尺度下光电子芯片的制备工艺的解决方案,以提升我国光电子芯片的研发水平和产业化进程。


地址:江苏


服务保障:已审核 已通过企业认证