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图形刻蚀-刻蚀-ICP


ICP刻蚀机 Oxford Instrument PlasmaPro System100 ICP 180

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主要用于直径6英寸及以下SiO,SiN,Si的均匀刻蚀,实现微纳米结构加工。设备具有稳定性好,重复性高,兼容性好的特点。兼容多种刻蚀工艺。可广泛应用于半导体材料、光电子学、集成电路、激光光学、红外探测器、功率器件、MEMS系统等加工与相关研究。

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公司名称:华慧芯科技(天津)有限公司

平台简介: 

    清华大学天津电子信息研究院高端光电子芯片创新中心,占地约800平方米,其中百级黄光区100平方米。中心拥有完整的光电子器件研发设备,支持III-V族半导体、硅基半导体、二维材料、柔性材料、金属材料等光电子芯片的研发,并具有多个纳米尺度的特色工艺模块和先进表征模块;配套的测试实验室提供国际领先的芯片测试分析技术。

    中心在支持天津电子院项目孵化的同时,面向社会开放,提供纳米尺度下光电子芯片的制备工艺的解决方案,以提升我国光电子芯片的研发水平和产业化进程。

地址:天津

服务保障:已审核 已通过企业认证