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图形刻蚀-聚焦离子束(FIB)

聚焦离子束系统 ZEISS Crossbeam 540

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Crossbeam 540聚焦离子束(FIB)系统采用液态镓离子源。离子源寿命为3000 µAh。加速电压30kV下分辨率可达3nm。同时配有五支气体注入系统,及透射电镜样品制备用机械手。该系统可适用于横截面和断层扫描,3D分析,TEM样品制备及纳米图形加工。



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公司名称:华慧芯科技(天津)有限公司

平台简介: 

    清华大学天津电子信息研究院高端光电子芯片创新中心,占地约800平方米,其中百级黄光区100平方米。中心拥有完整的光电子器件研发设备,支持III-V族半导体、硅基半导体、二维材料、柔性材料、金属材料等光电子芯片的研发,并具有多个纳米尺度的特色工艺模块和先进表征模块;配套的测试实验室提供国际领先的芯片测试分析技术。

    中心在支持天津电子院项目孵化的同时,面向社会开放,提供纳米尺度下光电子芯片的制备工艺的解决方案,以提升我国光电子芯片的研发水平和产业化进程。

地址:天津

服务保障:已审核 已通过企业认证