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薄膜沉积-化学气相沉积

化学气相沉积 Oxford Instrument PlasmaPro 100 PECVD

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商家介绍

用于SiO和SiN的均匀沉积,设备具有稳定性好,重复性高,兼容性好的特点。可广泛应用于半导体材料及薄膜的微纳米结构加工与相关研究等。

设备最大支持6英寸片。沉积薄膜均匀性优于2%,重复性优于3%。薄膜应力小,耐湿法腐蚀,具有很高的成膜质量。


化学气相沉积加工展示图

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公司名称:华慧芯科技(天津)有限公司

平台简介: 

    清华大学天津电子信息研究院高端光电子芯片创新中心,占地约800平方米,其中百级黄光区100平方米。中心拥有完整的光电子器件研发设备,支持III-V族半导体、硅基半导体、二维材料、柔性材料、金属材料等光电子芯片的研发,并具有多个纳米尺度的特色工艺模块和先进表征模块;配套的测试实验室提供国际领先的芯片测试分析技术。

    中心在支持天津电子院项目孵化的同时,面向社会开放,提供纳米尺度下光电子芯片的制备工艺的解决方案,以提升我国光电子芯片的研发水平和产业化进程。

地址:天津

服务保障:已审核 已通过企业认证