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紫外光刻

利用紫外曝光的方法,将掩模版上的图形转移到光刻胶上。

曝光模式为接触式曝光。光刻机型号为SUSS MA/BA6,可进行正面/背面套刻,最大支持6英寸片。支持正/负光刻胶。

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服务介绍:

利用紫外曝光的方法,将掩模版上的图形转移到光刻胶上。

曝光模式为接触式曝光。光刻机型号为SUSS MA/BA6,可进行正面/背面套刻,最大支持6英寸片。支持正/负光刻胶。

服务内容:

1. 清洗基片(视情况而定)

2. HMDS预处理(视情况而定)

3. 旋涂光刻胶

4. 烘烤

5. 对准曝光

6. 显影/定影

7. 烘烤

8. 光学检测


服务说明:

客户提供:基片及光刻版。套刻则还需提供套刻说明。

实验周期:1-2个工作日。视难易程度而定。

收费标准:单步曝光 ××元/片次;正面套刻××元/片次;背面套刻××元/片次;特殊片另行协商。


成果展示: