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RCA标准清洗

硅片的化学清洗。去除表面的有机物沾污,氧化膜,颗粒和金属等沾污。

最大支持6寸片。


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服务介绍:

硅片的化学清洗。去除表面的有机物沾污,氧化膜,颗粒和金属等沾污。

最大支持6寸片。


服务内容:

1. SPM(H2SO4:H2O2)清洗

2. HF(DHF)清洗

3. APM(SC-1: NH4OH /H2O2 /H2O)清洗

4. HPM(SC-2:HCl /H2O2 /H2O)清洗

5. 热N2吹干

6. 光学检测


服务说明:

客户提供:基片及清洗要求,每一步可以单独指定。

实验周期:1-2个工作日。视难易程度而定。

收费标准:××元/片次;特殊片另行协商。


成果展示: